什么是溅射靶材?
溅射靶材是制备半导体的材料之一。半导体制备过程中，在晶圆制造及芯片封装两大环节均需用到溅射靶材。在晶圆制造环节，溅射靶材主要用于制作晶圆导电层、阻挡层以及金属栅极，通常要求靶材纯度在5N (99.999%)以上，主要使用铜靶材、铝靶材、钦靶材、钜靶材等，在芯片封装环节，溅射靶材主要用于贴片焊线的镀膜，多使用铜靶材、铝靶材、钦靶材等靶材。
半导体行业常会见到一个词，靶材，那么靶材是什么? 为什么靶材如此重要?今天我们就来说说靶材是什么?靶材是什么?简单地说，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢钵、镍靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
目前，(纯度)溅射靶材按照化学成分不同可分为
1) 金属靶材(纯金属铝、、铜、银等)
2) 合金靶材(镍铬合金、镍钻合等)
3) 陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等).
按开关不同可分为:长靶、方靶、圆靶。
按应用领域不同可分为:半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、具改性靶材、电
子器件靶材、其他靶材。
看到这里，大家应该了解了高纯溅射靶材，知道了金属靶材的铝、钦、铜、钜，在半导体晶圆制造中，200mm(8寸)及以下晶圆制造通常以铝制程为主，使用的靶材以铝、钦元素为主。300mm( 12寸)晶圆制造，多使用先进的铜互连技术，主要使用铜、钜靶材。
溅射靶材是制备半导体的材料之一。半导体制备过程中，在晶圆制造及芯片封装两大环节均需用到溅射靶材。在晶圆制造环节，溅射靶材主要用于制作晶圆导电层、阻挡层以及金属栅极，通常要求靶材纯度在5N(99.999%)以上，主要使用铜靶材、铝靶材、钦靶材、靶材等，在芯片封装环节，溅射靶材主要用于贴片焊线的镀膜，多使用铜靶材、铝靶材、钵靶材等靶材。
半导体用溅射靶材
半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，也是对靶材的成分、组织和性能要求的领域。具体来讲，半导体芯片的制作过程可分为硅片制造、晶圆制造和芯片封装等三大环节，其中，在晶圆制造和芯片封装这两人环节中都需要用到金属溅射靶材。
半导体用溅射靶材
半导体芯片用金属溅射靶材的作用，就是给芯片上制作传递信息的金属导线。具体的溅射过程: 首先利用高速离
子流，在高真空条件下分别去轰击不同种类的金属溅射靶材的表面，使各种靶材表面的原子一层一层地沉积在半导体
芯片的表面上，然后再通过的特殊加工工艺，将沉积在芯片表面的金属薄膜刻蚀成纳米级别的金属线，将芯片内部数
以亿计的微型晶体管相互连接起来，从而起到传递信号的作用。